|

Верификация результатов расчета магнитных полей в магнетронной распылительной системе

Авторы: Титушкин А.В.
Опубликовано в выпуске: #7(12)/2017
DOI: 10.18698/2541-8009-2017-7-132


Раздел: Информатика, вычислительная техника и управление | Рубрика: Системный анализ, управление и обработка информации

Ключевые слова: магнетронная распылительная система, ионное распыление, магнетрон, тонкопленочные покрытия, численные методы моделирования магнитного поля, топология магнитного поля, оптимизация конфигурации магнитного поля

Опубликовано: 28.06.2017

Произведено сопоставление результатов прямых стендовых измерений топологии и величины магнитного поля в магнетронной распылительной системе на постоянных магнитах с мишенью диаметром 50 мм с результатами моделирования, полученными при помощи программы конечно-элементного анализа. Показано, что результаты измерений и расчета хорошо согласуются.


Литература

[1] Береговский В.В, Марахтанов М.К., Духопельников Д.В, Щуренкова С.А. Объемное содержание и дисперсный состав капельной фазы в покрытиях, полученных вакуумно-дуговым методом на установке Platit π-80. Упрочняющие технологии и покрытия, 2009, № 1, с. 3–5.

[2] Духопельников Д.В., Кириллов Д.В., Марахтанов М.К., Воробьев Е.В., Булычёв В.С. Вакуумная дуга на поликристаллическом кремниевом катоде. Наука и образование: научное издание МГТУ им. Н. Э. Баумана, 2014, № 11, с. 188–197.

[3] Духопельников Д.В., Рязанов В.А., Воробьев Е.В., Абгарян В.К., Попов Г.А., Хартов С.А. Эффективные коэффициенты распыления титана, нитрида титана и молибдена ионами азота и смеси азот–кислород. Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования, 2016, № 12, с. 15–21.

[4] Шарапов В.М., Зимин А.М., Кривицкий С.Е., Серушкин С.В., Залавутдинов Р.Х., Куликаускас В.С. Влияние дейтерия на формирование тонких пленок при распылении вольфрама в дейтериевой плазме магнетронного разряда. Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования, 2015, № 7, с. 23–28.

[5] Петухов В.Ю., Гумаров Г.Г. Ионно-лучевые методы получения тонких пленок. Казань, КГУ, 2010. 87 с.

[6] Духопельников Д.В. Магнетронные распылительные системы. В 2 ч. Ч. 1. Устройство, принципы работы, применение. Москва, Изд-во МГТУ им. Н.Э. Баумана, 2014. 53 с.

[7] Марахтанов М.К. Магнетронные распылительные системы ионного распыления. Основы теории и расчета. Москва, Изд-во МГТУ им. Н.Э. Баумана, 1990. 75 с.